在线线速度61m/s四级高速乳化机是高效、高速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度#到微米数量级时，甚至纳米级时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子#速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。

四级在线式超高速均质机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的。根据一些行业特殊要求，IKN在ERS4000系列的基础上又开发出ERX4000超高速剪切均质机。其剪切速率可以过15000 rpm，转子的速度可以#到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度高,无需其他辅助分散设备。 

ERX4000系列是一种在线式四级超高剪切超高速分散机，以达到超细的乳液和悬浮液。极高的剪切速率（高达410.000 1/S）与分散头的精密几何结构相结合能使液滴和固体颗粒粉碎到纳米级。由此产生的物料，具有长期的稳定性。从而减少了对乳化剂和增稠剂的需要。由于极高的能量密度，就能减少使用或甚至不需要使用其他的分散助剂。

MP系列适用于需要在真空状态下乳化搅拌的产品。可配置高剪切乳化机使用，该设备的核心是hy3380cc海洋之神EBI2000系列，该系列设备直接和预混罐安装在一起，有2级设计，拥有更多的功能和灵活性。适合分散、乳化、均质、搅拌混合等工艺过程。能够确保产品的最终质量，并且极大缩短生产时间。

CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMO2000系列锥体磨（胶体磨），它的创新设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000系列锥体磨（胶体磨）能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比CM2000系列胶体磨还小，锥体磨（胶体磨）的研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。

 CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMSD系列，采用德国技术，设备转速可高达14000rpm，是国产设备的4-5倍；磨头结构为三级错齿，沟槽深度从上到下为由深到浅，沟槽的宽度也是从上到下为由大到小，这样每级都会对物料更进一步的研磨粉碎。而国产胶体磨从上到下的宽度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN胶体磨采用德国博格曼双端面机械密封，并配有机密冷却系统，在确保冷却水的情况下，可24小时连续生产。

 CMXD系列采用圆椎形定转子,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。